TMEIC participará de SEMICON Japan 2008
TMEIC estará exponiendo "Generador de ozono de concentración ultra alta sin N2" para un proceso avanzado como ALD. "Tecnología de tubos isotérmicos" para el control térmico de la superficie de placas y equipos. Nuestra "Only-One Technology" admitirá procesos de fabricación de semiconductores de última generación. 3 al 5 de diciembre en Makuhari Messe, Chiba, Japón. (Cabina TMEIC: 3D-701)
